Canon stellt Lithografie-System für 5-nm-Prozesse vor

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Zum ersten Mal seit 11 Jahren stellt Canon ein neues Lithografie-System vor. Es kommt ohne Laser aus und stempelt stattdessen Wafer.

Canon stellt die erste Maschine vor, die mit sogenannter Nanoimprint-Lithografie Halbleiterchips in Serie fertigt. Das FPA-1200NZ2C genannte System belichtet Silizium-Wafer nicht, sondern stempelt sie.Die Technik soll derzeit Strukturen mit einer Linienbreite von 14 Nanometern erstellen können – eine Größe, wie sie heutzutage bei 5-nm-Prozessen vorzufinden ist. Mit den echten Strukturbreiten haben die Namen wie 14, 7 und 5 nm nichts mehr zu tun.unerlässlich.

– früher noch unter dem Namen Toshiba Memory. Daten, etwa zur Genauigkeit und dem Wafer-Durchsatz, gibt es bislang nicht öffentlich.

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